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浏览 的方式： 作者 Dr. Edward Y. Chang

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1992以反应性离子蚀刻法研究砷化镓及砷化铝镓之选择性侵蚀黄志辉; Jyh Huei Hwang; 张翼; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
1992以深紫外光微影成像技术作次微米闸的研究刘恩宏; En-Hung Liu; 张 翼; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
1992以砷化铟镓/砷化镓磊晶层作非合金化欧姆接触之研究陈炯旭; Jeong-Shiuh Chen; 张 翼; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
2001使用氮化钨闸极之氮化铝镓/氮化镓高电子迁移率电晶体之高温应用黄尧琳; Yao-Lin Huang; 张翼; 冯明宪; Dr. Edward Y. Chang; Dr. M. S. Feng; 材料科学与工程学系
2000应用在砷化镓单质微波积体电路上各种不同的连接线制程之研究游智仲; Chin-Chung Yu; 张翼; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
2000砷化镓元件铜金属化制程可行性之研究何吉真; 张 翼; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
2000结合光辅助湿式蚀刻和诱发耦合电浆蚀刻应用于氮化镓之研究黄稳骏; Wen. Jun. Huang; 冯明宪; 张翼; Dr. M. S. Feng; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
2000电子束微影制作0.15微米T形闸极于化合物曾孟修; Mencius Tseng; 张 翼; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
2001高崩溃电压磷化铟镓通道场效电晶体之研发陈世宏; S. H. Chen; 张翼; Dr. Edward Y. Chang; 材料科学与工程学系
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