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National Chiao Tung University Institutional Repository
瀏覽 的方式： 作者 Chen, Hshu-Wei
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公開日期
標題
作者
2011
Improvement on Electrical Characteristics of HfO2 MIS Capacitor with Dual Plasma Treatment
Chang, Kow-Ming
;
Chang, Ting-Chia
;
Chen, Hshu-Wei
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
2010
雙重電漿處理對二氧化鉿金屬-絕緣層-半導體結構電特性之改善研究
陳學威
;
Chen, Hshu-Wei
;
張國明
;
Chang, Kow-Ming
;
電子研究所
