Title: | 電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層及其製備方法 |
Authors: | 陳智 杜經寧 劉道奇 |
Issue Date: | 1-Jun-2013 |
Abstract: | 本發明係有關於一種電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層、其製備方法、以及包含其之基板。本發明之電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層之50%以上的體積包括複數個晶粒,該複數個晶粒彼此間係互相連接,該每一晶粒係由複數個奈米雙晶沿著[111]晶軸方向堆疊而成,且相鄰之該晶粒間之堆疊方向之夾角係0至20度。本發明之電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層具有非常好的抗電遷移性、硬度以及楊式係數,可以大幅度的提升電子產品的可靠度。生產成本低且與半導體製程完全相容。 |
Gov't Doc #: | C25D003/38 C25D007/12 H05K001/05 B82Y040/00 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/103272 |
Patent Country: | TWN |
Patent Number: | 201321557 |
Appears in Collections: | Patents |
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