完整後設資料紀錄
DC 欄位語言
dc.contributor.author隋志暉en_US
dc.contributor.author張振壹en_US
dc.contributor.author陳宏明en_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:53:11Z-
dc.date.available2014-12-12T02:53:11Z-
dc.date.issued2005en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009313581en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/78396-
dc.description.abstract在超大型積體電路進入了深次微米的時代之後,晶片製造的困難度和可靠度都大幅下降,而主因就是化學機械研磨後的晶圓平整度問題。晶圓的平整度會干擾製程中的曝光,進而影響電路的效能甚至毀壞電路,這個問題在深次微米後的晶片製造影響更是明顯。由於先進的製程科技,插入無意義的金屬已經是成為主流的方法用以改進在化學機械研磨之後的晶圓平整度。在這篇論文當中,我們提出一個更快更有效率的的演算法,命名為Fast Model-based Dummy Insertion (FMDI) 演算法 去處理這個問題。 FMDI演算法使用低通濾波器的模型去有效的選擇數個最低密度的位置擺放無意義金屬。FMDI演算法可以得到比之前更快更有效率的結果。因為其中有使用到快速傅立葉轉換所以時間複雜度限制為O(nlogn)。並且和之前的線性演算法的時間複雜度O(n³)比較起來,FMDI 演算法只需要時間複雜度O(nlogn)。由實驗的結果更可以看出FMDI演算法的結果比Min-Variance method [6] 的結果更好速度更快。zh_TW
dc.language.isoen_USen_US
dc.subject插入無意義金屬zh_TW
dc.subjectdummy pattern insertionen_US
dc.title高速模型演算法擺放無意義金屬用以改善化學機械研磨的平整度zh_TW
dc.titleFast and Model-Based algorithm for dummy pattern insertion in layout uniformity of chemical mechanical polishingen_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department電信工程研究所zh_TW
顯示於類別:畢業論文


文件中的檔案:

  1. 358101.pdf

若為 zip 檔案,請下載檔案解壓縮後,用瀏覽器開啟資料夾中的 index.html 瀏覽全文。