統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| Crucial integration of high work-function metal gate and high-k blocking oxide on charge-trapping type flash memory device | 123 |
本月總瀏覽
| 八月 2025 | 九月 2025 | 十月 2025 | 十一月 2025 | 十二月 2025 | 一月 2026 | 二月 2026 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Crucial integration of high work-function metal gate and high-k blocking oxide on charge-trapping type flash memory device | 0 | 0 | 0 | 1 | 1 | 3 | 0 |
檔案下載
| 檢視 | |
|---|---|
| 000262008700038.pdf | 20 |
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 99 |
| 美國 | 20 |
| 日本 | 2 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 97 |
| Menlo Park | 7 |
| Oakland | 5 |
| Kensington | 4 |
| Edmond | 3 |
| Beijing | 1 |
| Hangzhou | 1 |
| Los Angeles | 1 |