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dc.contributor.author蔡璧徽en_US
dc.contributor.authorTsai Bi-Hueien_US
dc.date.accessioned2014-12-13T10:28:58Z-
dc.date.available2014-12-13T10:28:58Z-
dc.date.issued2007en_US
dc.identifier.govdocNSC96-2416-H009-027zh_TW
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/88791-
dc.identifier.urihttps://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1432725&docId=256071en_US
dc.description.abstract过去学者曾阐述研究发展外溢效果(例如,Bernstein (1988), Megna and Klock (1993),
Tsai (2005)),然而,这些研究并无有效地探讨影响研发外溢效果(Spillover Effect)的要
素,本研究即探讨群聚(Cluster)、创新型态与研发机构合作计画对研发外溢效果(Spillover
Effect)的影响。
本研究以2001 年至2006 年台湾66 家上市上柜的积体电路(Integrated Circuit, IC)
公司与全球27 家IC 设计大厂为研究对象,以纵横资料(Panel Data)和传统回归(OLS)
估计积体电路产业研发外溢效果,本文研究主题为:1.台湾是全世界积体电路生产重镇,
积体电路产业群聚程度较其他区域显着,本研究藉由比较台湾与全球积体电路产业研发
外溢效果的差异,瞭解群聚程度对研发外溢效果的影响。2.比较IC 设计、制程阶段研发
外溢效果,瞭解IC 设计阶段着重产品创新与IC 制程阶段着重制程创新,两者研发外溢
效果的差异。3.探讨工研院科专计画对积体电路产业研发绩效与研发外溢效果的影响,
确认研究机构是否能辅导厂商,建立自主技术,减少依赖使用其他厂商的研发成果。
Sougiannis (1994)与Chan, Lakonishok and Sougiannis (2001)阐述研究发展活动为公
司的无形资产,从这一观点,会计准则制订应斟酌修正其认列方式。但另一方面,研究
发展具有“外部性”特质,自身研发会带动其他厂商发展,反而会降低该研发厂商的获
利性,研发外溢效果亦是衡量企业价值应该考量的议题,本研究若证实群聚、创新型态
与研究机构扶植产业均是研发外溢的重要因素,将能提供会计研究发展项目认列的参考
方针。
zh_TW
dc.description.sponsorship行政院国家科学委员会zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.title群聚、工研院科专计画与研发外溢效果---台湾与全球积体电路产业实证zh_TW
dc.titleClusters, Public Research Projects and R&D Spillovers---Evidence from Taiwan and Global Integrated Circuit Industryen_US
dc.typePlanen_US
dc.contributor.department国立交通大学管理科学系(所)zh_TW
显示于类别:Research Plans